臺積電根本不想“突圍”? 50多臺光刻機逃不過美國技術

在芯片工藝方面,臺積電是真正的“巨頭”,在所有人還在努力實現5nm量產的時候,臺積電早已開始了3nm、3nm的布局,還收獲頗豐,取得歷史性進展。

和三星比起來,臺積電明顯就更早實現5nm量產,而且品質也要更高一些。7nm芯片的產量已經超過了10億顆,這種芯片應用到各國的電子產品上,遍布全世界。

臺積電根本就不想“突圍”?

由于技術十分先進,所以臺積電手里攥著全球50%以上的訂單,但是由于種種原因,第二大客戶華為突然就不能再合作了,對臺積電來說無疑也是一個晴天霹靂。

不過,就在政策實施幾天后,臺積電做出“掙扎”,繼續申請恢復合作,臺積電總裁也公開表示要與“客戶”一起努力。只有客戶的產品成功了,他們才能收到更多的更新。多個訂單。

隨后臺積電就表示要努力“突圍”,擺脫美國的技術。但是8月28日,臺積電的一則新消息傳來,稱為了加速先進的制程,累計EUV機臺將在2021年底超過50臺。

這種光刻是ASML的得意之作,預計大部分都到了臺積電手里,這就意味著,臺積電根本逃不開美國技術,起碼在未來的幾年是這樣的,難道臺積電根本就不想“突圍”?

劉德音說的確實沒錯

今年7月份的時候,劉德音就表示,在半導體和芯片行業,如果不用最先進的設備,那么就造不出領先的產品,而臺積電追求的正是技術的領先。

而現在頂尖的設備都在美國公司的手里,光刻機作為芯片的先決條件,重要性不言而喻,而想要在短短幾年實現超越,幾乎不可能。

因此,臺積電會繼續使用美國技術,而且由來已久。要想打破這種局面,唯一的機會就是在光刻機上取得突破。如果有比 ASML 更先進的光刻機,一切都會迎刃而解。